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                掩模制造
                服务
                Laser writer
                激光制版工艺
                扫描距离:0.65mm
                扫描方式:Raster
                精度: 5nm
                E-Beam writer
                电子束制版工艺』
                扫描距离:取决「于束斑
                扫描方式:Raster & Vector
                精度:取决于↙束斑(~25nm)

                  无锡迪思微电子有限公司已拥有成熟的电子束和激光制程工●艺,拥有目前高阶∞的UV曝光机台。

                掩模制造服务

                无锡迪思微电子有限公司是国内最※早从事光掩模制造的专业企业,拥有卐国内领先、配套齐全的光掩模制造Ψ 设备、一流的厂房设施、优良的工艺技术、严密ζ 的质量控制和信息安全保护措施。秉承"为客户创造价值,与客户共同【成长"的理念及追求,欧冠买球掩模致力于成为国内众多IC设计公司和晶圆厂的首选合作伙伴。

                产品:

                0.18um及以上Stepper掩模 
                3”x5”UT掩模
                1:1 Array掩模  
                拷贝光掩模 

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